WEKO3
アイテム
SiO₂基板上に支持された慣性半径以下の膜厚を持つPMMA 薄膜の緩和過程に現れる薄膜効果
http://hdl.handle.net/10236/00025246
http://hdl.handle.net/10236/00025246479c896b-cde9-4e13-8128-cac347b9bb67
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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論文要旨 (267.1 kB)
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| Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
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| 公開日 | 2017-02-16 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | SiO₂基板上に支持された慣性半径以下の膜厚を持つPMMA 薄膜の緩和過程に現れる薄膜効果 | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_46ec | |||||
| 資源タイプ | thesis | |||||
| 著者 |
關屋, 和貴
× 關屋, 和貴 |
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| 内容記述 | ||||||
| 値 | 2015年度修士論文要旨.関西学院大学大学院理工学研究科物理学専攻高橋功研究室 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | AM | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa | |||||
